n 设备信息
设备名称：多能场辅助研抛试验机
资产编号：2025089006
规格型号：GNADE410
产 地：中国
厂 家：北京艾姆希半导体科技有限公司
启用日期：2025-06-05
所属单位：机电工程实验中心
使用性质：科研
资产负责人：田帅
联系电话：15937195627
联系邮箱：shuait@zua.edu.cn
放置地点：06A101-1
n 主要规格&技术指标
1、晶圆尺寸：4” x 1/2/3；
2、总厚度偏差（TTV）在±3μm 以内；
3、抛光后样品的表面粗糙度Ra≤5nm；
4、显微镜200倍明场下无明显划痕，崩边，毛刺等；
5、工作盘直径：420mm；
6、支持电化学腐蚀性能检测；
n 主要功能及特色
可用于硅、碳化硅、氮化镓、锑化镓、磷化铟、砷化镓、碲锌镉、碲镉汞、铌酸锂等多种材料半导体材料芯片的研磨减薄，底面、表面、端面的化学机械抛光；。
n 样本检测注意事项
样品加工的尺寸为4英寸及以下兼容，需要根据加工样品自行配置抛光工具和抛光液。
n 设备使用相关说明
加工价格根据加工材料难易程度面议。
