2025年7月18至7月21日，由《表面技术》编辑部、《表面科学技术(英文)》编辑部主办，西南技术工程研究所及清华大学、北京航空航天大学、浙江大学等多所高校和科研院所联合主办的2025国际表面科学技术与应用学术会议（ICSSTA 2025）在杭州召开。此次会议以“聚焦表面科学技术创新，扩大国际科技交流合作”为主题，邀请了中国工程院宫声凯、韩恩厚等多位表面工程领域知名院士和行业专家出席会议并做大会报告，汇聚了全球表面科学技术领域的众多专家学者、企业家共同交流该领域的最新研究成果和业界动态。
我院硕士研究生李永辉和王唯骏参加了此次会议，并分别在能场复合表面改性技术主题论坛和表面合金化技术与工程应用主题论坛做了题为“脉冲偏压占空比对TiAlCrSiN薄膜微观结构和性能的影响”和“调制比对CrN/TiN纳米多层薄膜微观结构及性能的影响”的口头报告。围绕表面制备技术、纳米多层薄膜性能调控等热点议题，李永辉和王唯骏与参会者展开深入交流，赢得了业内高度关注与好评。
研究生此次参会并作报告，不仅展示了学院研究生的风采，促进了我院研究生与国内外其他高校及科研机构间的学术交流，也有效拓宽了国际化视野，提升了我院研究生参与学术研究的氛围。下一步，学院将继续鼓励研究生积极参与高水平学术活动，加强学术交流与合作，不断提升科研创新与实践能力，为推动相关领域的研究向更深层次的发展贡献更多力量。（文图/王唯骏 编辑/王正鹤 审核/刘元朋）
